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퓨리에 변환 적외선 분광광도계 ( Fourier Transform infrared (FT-IR) Spectrometer )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
〇 미지 시료나 구성 성분을 알고 있는 시료에 대해 IR Beam의 광 흡광도/투과도를 봅으로써 시료가 가지고 있는 IR Beam에 대한 고유 지문영역(Finger print)을 이용하여 정성/정량분석을 하는 장비로 모든 유기물, 무기물, 반도체 Wafer, Polymer등은 물론 미지 화합물을 연구할 수 있는 첨단 분석 장비
자외/가시/적외선 분광광도계 ( UV/VIS/NIR Spectrophotometer )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
〇 분광광도계는 물질마다 다른 흡수 스펙트럼 및 흡수하는 예너지 값의 차이를 기반으로 유기/무기 화합물의 정량, 정성 분석에 주로 사용
〇 물질의 원자 또는 분자의 전자구조를 예측"
마이크로 열전달 적층장비 ( HM1-60 )
사용범위 :공동활용서비스
활용용도 및 이용분야 :
〇 그래핀, MoS2 등, 2차원 나노물질을 대면적으로 성장한 뒤 이런 물질들을 순차적으로 적층하여 적층형의 구조를 구현할 수 있음. 시료를 정확하게 원하는 위치에 전사하는 데에 이용할 수 있음. 혹은 적층 구조에서의 초격자 형성에 응용할 수 있음.
동적광산란분석기 ( Dynamic Light Scattering )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
〇 용매 내 나노입자들의 브라운 운동 시 입자의 크기에 따라 움직임의 속도차로 광원 조사에 따른 도플러 효과 발생. 이에 따른 입도광과 검출광의 차이를 이용 나노입자 크기 규명.
〇 TEM과 달리 용매 내에서의 나노입자에 대한 정보를 직접적으로 얻을 수 있음.
〇 용매 내에서의 외부자극에 대한 나노입자의 응답성을 in-situ로 평가하는데 있어 유일한 분석법.
〇 용매 내에서의 나노입자 표면전위 평가 및 고분자 분자운동성 분석 가능나노입자 크기 크기분포 분산성 표면전위 분석
〇 외부 자극에 따른 나노입자 변화 분석
〇 고분자 절대분자량 및 용매 내 분자운동성 분석"
자외선 조사 미세패턴 형성기 ( MDA-400S )
사용범위 :공동활용서비스
활용용도 및 이용분야 :
〇 실리콘 기판 위에 패턴된 금속 전극 형성
〇 실리콘 기판 위에 패턴의 식각
〇 그래핀의 미세패턴 식각
〇 고분자 필름의 패턴
〇 전자빔묘화 공정을 위한 marker system 의 패턴
〇 다층 패턴의 정렬
프리즘 커플러 ( Prism coupler )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
〇 고분자 및 복합소재 필름의 굴절률 및 전기 광학적 특성을 분석하여 시편의 물성을 평가하기 위한 장비
〇 예를들어 안경 렌즈의 물질로 사용되어지는 고분자 재료의 굴절률 측정 및 아베수 측정
〇 프리즘 시트로 이용되어지는 고분자 수지의 굴절률 및 복굴절률 측정
〇 고유전 또는 저유전 특성을 가지는 재료의 유전율 측정"
자동 임계점 건조기 ( Tousimis 815 )
사용범위 :공동활용서비스
활용용도 및 이용분야 :
○ MEMS 소자 공정의 마지막 단계에서 용매의 건조에 따른 표면장력의 영향으로 마이크로 구조가 무너지지 않도록 이산화탄소의 초임계 상태을 이용하여 용매를 건조시키는 데에 이용.
○ 복합소재의 열전도도 측정을 위한 구조물을 제작하는 데 활용함.
오실로스코프 시스템 ( Oscilloscope system )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
〇 고전압을 사용하는 실험의 경우, 고전압 프로브로서 P5100가 장착되어 있어 100:1 probe, 250MHz까지 측정이 가능하며 2500V까지 측정이 가능함
기판 절단기 ( NEON6010 )
사용범위 :공동활용서비스
활용용도 및 이용분야 :
〇 반도체용 6인치 Si 기판 유리기판 플라스틱 기판 등의 절단
〇 고온 반도체 박막 및 나노구조 성장용 기판 절단
〇 전자소자 특성 평가용 기판 절단
〇 반도체 chip 절단
〇 LED chip 절단
RF 증폭기 ( RF Amplifier )
사용범위 :공동활용
활용용도 및 이용분야 :
○ 전력 장치 여러 대에 대응하는 전력 장치
○ 장기적인 관점에서 탄소섬유 저가 생산공정 탄소섬유 표면 계질 변화 나노구조체 생성 등 다양한 공정에 대응하는 플라즈마 원을 개발하는데 중요한 역할을 할 수 있다.
○ CCP ICP 등 다양한 플라즈마 소스원에 다양한 주파수의 Sin wave 및 펄스의 전력을 공급하여 플라즈마를 발생함으로써 플라즈마 관련 분야의 기초적인 연구 역시 가능하다."

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